刻机的研究要比蚀刻机复杂多了, 所以这个研究的重心还是放在光刻机的研究上面的。

这一次光学研究所的目标还是非常大了，想直接将步进扫描投影曝光机，准备将集成电路图形的线宽缩小到0.35 μm的节点。波长能达到193nm, 光学光刻分辨率争取能达到70nm的极限，目标很宏大, 自然需要的时间也不少。

限制芯片大小的主要关机就是在于光刻系统能获得的分辨率有关, 而提升分辨率最有效的方法就是减小照射光源的波长, 因此这个项目的关键就是开发和寻找新型的短波长的光源, 研究不同的光源本来就是光学研究所的重要任务, 所以这一次他们项目的重点也就是找到只有193nm甚至是要比这个数...

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